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lithography

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光刻工艺主要分三步:涂胶coating，曝光exposure，显影development:

光刻工艺中，电子化学品在接能空气的过程中容易产生气泡，因此在光刻工艺段选择匹配的过滤器，除了颗粒和凝胶外，还需要考虑在过滤器启动阶段中经可能地将微气泡排出、释放以避免后续产生的缺陷。同时为了减少化学品的损耗，也需要考虑到滤材与过滤对象的化学兼容性。

光化学品从高压向低压分配时，滤膜产生的高压损负荷会加剧流体不规则流动而产生的微气泡聚集，最终形成下游出气泡。尼龙66和高密度聚Z烯(HDPE)滤膜与典型光刻化学品完全相容，在可抽出物方面极端清洁，可提供极住的可润湿性。


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ACCUPATTEN:系列滤芯是Darlly 专为先进制程设计的一款具有高洁净度和广泛化学兼容性的光刻胶过滤器，壳体可选PP及HDPE两种材质能有效抑制溶出物多种膜材可选，确保过滤流速稳定，特殊流道设计，可以减少微小气泡的产生，适用于多种过滤场景。囊式滤芯采用三接头设计，能与Darlly配套的金属支架实现快速安装更换。

应用领域

光刻工艺点过滤，包括光刻胶和溶剂

产品特点

快速安装和更换

有效控制溶出物

低压损，高通量


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