在半导体制造的核心环节，光刻机的技术迭代与分工协作，直接决定了芯片的制程极限与量产规模。而ASML凭借其标志性的“双工作台扫描技术”TWINSCAN平台，构建了覆盖全制程的光刻机版图。这个庞大体系衍生出四大系列：EXE、NXE、NXT和XT，它们各自承担着平衡技术前沿与规模量产的使命。
理解ASML的机型，首先要看懂它的命名体系，这一体系清晰地反映了技术演进的代际：
XT（Xtremity/eXtended Technology）是“元老级”基石平台,其技术渊源可追溯至更早期的PAS5500单工作台系统；
NXT（NeXT Technology）代表从气浮升级到“磁悬浮”工件台技术的下一代平台，在提升套刻精度与产能的同时，也为浸没式技术的大规模量产提供了绝佳平台；
NXE（NeXt generation EUV）标识进入EUV时代；
而EXE（Extreme EUV）则是采用High-NA技术的EUV旗舰系列。
关于识别是否采用“浸润式（Immersion）”技术，最严谨的标准是查看其型号后缀是否带“i”。事实上，最早的浸润式实验机型是XT:1400i（原型机为AT:1150），而第一台投入生产的机器是XT:1250Di，第一代真正量产的机型则是XT:1700Fi。此后浸润式技术在XT:1950Hi之后全面转向了NXT平台。
理解ASML的机型，首先要看懂它的命名体系，这一体系清晰地反映了技术演进的代际：
XT（Xtremity/eXtended Technology）是“元老级”基石平台,其技术渊源可追溯至更早期的PAS5500单工作台系统；
NXT（NeXT Technology）代表从气浮升级到“磁悬浮”工件台技术的下一代平台，在提升套刻精度与产能的同时，也为浸没式技术的大规模量产提供了绝佳平台；
NXE（NeXt generation EUV）标识进入EUV时代；
而EXE（Extreme EUV）则是采用High-NA技术的EUV旗舰系列。
关于识别是否采用“浸润式（Immersion）”技术，最严谨的标准是查看其型号后缀是否带“i”。事实上，最早的浸润式实验机型是XT:1400i（原型机为AT:1150），而第一台投入生产的机器是XT:1250Di，第一代真正量产的机型则是XT:1700Fi。此后浸润式技术在XT:1950Hi之后全面转向了NXT平台。
