光刻机用纯化器

       LPS系列纯化产品是专门为半导体光刻等工艺开发的最先进的气体纯化系统,该设备采用物理吸附]的原理在常温下将CDA中的水分、挥发性酸、挥发性碱难溶化合物、可凝结和不可凝结有机物高效去除到ppt级。该系统全程自动执行纯化、再生和安全报警等过程，稳定可靠。

LPS系列纯化器内部照片